- 重要性：半导体制造过程中，对水中的颗粒物、杂质、离子等有极高的要求，去离子水可保证芯片质量和性能，减少芯片制造过程中的瑕疵和缺陷
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工艺流程：
- 预处理：通常包括砂滤、活性炭过滤、软化等步骤，去除水中的大颗粒杂质、有机物和硬度离子，防止对后续反渗透膜造成堵塞或损坏。
- 一级反渗透：经过预处理的水进入一级反渗透装置，在压力作用下，水通过反渗透膜，盐分、有机物等杂质被截留，产水电阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可满足一些对水质要求相对较低的半导体生产环节需求。
- 二级反渗透：一级反渗透的产水再经过二级反渗透进一步提纯，能更有效地去除水中的残留杂质，使产水水质更高，电阻率可达到更高水平，更接近半导体生产所需的超纯水标准。
- 后续处理：为了达到半导体行业对超纯水的严格要求，二级反渗透后的水还可能经过 EDI 装置、离子交换树脂、超滤、紫外灯杀菌等后续处理步骤，进一步去除水中的微量离子、有机物和微生物等。
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设备特点 ：
- 出水水质稳定：能连续生产出符合用户要求的超纯水，水质具有稳定性，不受原水水质波动影响。
- 无需酸碱再生：如采用 EDI 技术，无需使用酸和碱对离子交换树脂再生，无污水排放，减少了化学药剂的使用和废水处理成本。
- 自动化程度高：可实现全自动控制，易于操作和维护，减少人工干预，提高生产效率。
- 运行成本低：相比传统的离子交换等方法，运行费用较低，且设备结构紧凑，占地面积小 。
